[发明专利]烷类气体的净化设备的研制无效
| 申请号： | 200510093103.8 | 申请日： | 2005-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1751774A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 赵贤和 | 申请（专利权）人： | 北京微纳捷通经贸有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/04 | 分类号： | B01D53/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 519000北京市宣*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及在镓－铟合金中加入某种特殊活性物质，该活性物质对砷烷、磷烷、硅烷和硼烷等多种特气中有害痕量杂质氧、水和二氧化碳等具有强烈的“吸附”，而对主体的砷烷、磷烷、硅烷和硼烷等多种特气无任何化学反应。以该活性物质为主要手段，配合其他吸附剂、过滤器、阀门、管道、接头、流量计、和真空泵和电气(温度和压力)控制等装配成用于电子工业的砷烷、磷烷、硅烷和硼烷等多种特气的净化装置。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 净化 设备 研制 | ||
【主权项】：
1、一种在镓-铟合金中加入某种特殊活性物质，能深度脱除氧、水和二氧化碳等电子材料中有害杂质，一般可以达到0.01PPM以下(由于分析方法灵敏度的限制，小于0.01PPM杂质测试方法还不都具备)方法。其特征是利用净化剂中“活性”物质对氧、水和二氧化碳的强烈吸附的特性。
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