[发明专利]微透镜、其制造方法、其阵列以及电光装置和电子设备无效
| 申请号： | 200510093858.8 | 申请日： | 2005-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN1743916A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 小泽宣彦 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明利用微透镜来抑制光聚光到一点上。微透镜(500)的结构具备：透镜周缘部(500A)，在微透镜(500)的中心轴(A)周围延伸；和透镜中央部(500B)，由透镜周缘部(500A)所包围。通过透镜中央部(500B)及透镜周缘部(500A)所聚光的光在作为聚光目的地的2维平面上分布成同心圆状使之具有相同的光强度。因而，可以抑制光聚光到一点。另外，因为通过透镜中央部(500B)及透镜周缘部(500A)所聚光的光聚光到像素的开口区域上，所以还可以使像素的执行开口率得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 制造 方法 阵列 以及 电光 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种微透镜的制造方法，其特征为，包括，在透明基板上的形成微透镜的透镜曲面的透镜形成区域中，形成平面形状为岛状的腐蚀阻挡层的工序；在上述腐蚀阻挡层上形成中间层的工序；在上述中间层上形成在与上述腐蚀阻挡层对向的位置上设置有开口部的腐蚀掩模层的工序；以及采用各向同性腐蚀法，从上述开口部对上述中间层进行腐蚀，再从上述腐蚀阻挡层的侧旁将上述透明基板与上述中间层一并进行腐蚀的腐蚀工序。
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