[发明专利]连续批量制备金刚石膜的制备系统无效
申请号: | 200510094828.9 | 申请日: | 2005-10-14 |
公开(公告)号: | CN1752277A | 公开(公告)日: | 2006-03-29 |
发明(设计)人: | 左敦稳;卢文壮;徐锋;黎向锋;余亚平;王珉 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/458 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人: | 瞿网兰 |
地址: | 210016*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明针对目前的CVD金刚石制备时效率低、成本高的问题,设计了一种连续批量制备金刚石膜的制备系统,其特征是在壳体(26)中、衬底工作台(1)的周围安装有衬底仓库(8),机械手(3)与伸缩杆(27)一端相连,伸缩杆(27)中安装有拉杆(28),拉杆(28)的一端与机械手(3)的执行机构(301)相螺接,另一端安装有手轮(17);金属软管(11)的一端与锥形孔(29)周围的壳体(26)密封相连,另一端与伸缩杆(27)密封相连;在壳体(26)上开有透明密闭观察窗(30)。保证了CVD金刚石膜的连续沉积和碳化后的灯丝连续使用,降低了灯丝的消耗,减少了重新安装灯丝、抽真空、碳化灯丝、真空室充气等时间,提高了金刚石膜的制备效率,降低了CVD金刚石膜的制造成本。 | ||
搜索关键词: | 连续 批量 制备 金刚石 系统 | ||
【主权项】:
1、一种连续批量制备金刚石膜的制备系统,它主要包括一个真空密闭的壳体(26)和位于壳体(26)中的安置沉积金刚石膜衬底(2)的衬底工作台(1),其特征是在壳体(26)中、衬底工作台(1)的周围安装有衬底仓库(8),机械手(3)与伸缩杆(27)伸入壳体(26)中的一端相连,伸缩杆(27)中安装有拉杆(28),拉杆(28)位于壳体(26)中的一端伸出伸缩杆(27)与机械手(3)的执行机构(301)相螺接,拉杆(28)位于壳体(26)外的另一端也伸出伸缩杆(27)外,其上安装有手轮(17);壳体(26)上设有穿装伸缩杆(27)的锥形孔(29),伸缩杆(27)位于壳体(26)外的一端上安装有金属软管(11),金属软管(11)的一端与锥形孔(29)周围的壳体(26)密封相连,另一端与伸缩杆(27)密封相连;在与锥形孔(29)相对位置处的壳体(26)上开有密闭透明观察窗(30)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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