[发明专利]聚合物表面的亚微米/微米微透镜阵列的制备方法无效

专利信息
申请号: 200510094916.9 申请日: 2005-10-20
公开(公告)号: CN1772463A 公开(公告)日: 2006-05-17
发明(设计)人: 王振林;祝名伟;闵乃本 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: B29D11/00 分类号: B29D11/00;B29C71/02;B29K69/00;B29K77/00;B29K59/00;B29K61/00;B29K33/04;B29K25/00
代理公司: 南京苏高专利事务所 代理人: 柏尚春
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种聚合物表面的微米/亚微米微透镜阵列的制备方法,属于纳米/微米微结构材料及其制备技术。本发明制备方法采用自组装技术结合压模法,即首先利用胶体晶体模板结合热处理技术制备微米/亚微米印模;经过热压脱模制备微米/亚微米微透镜阵列。本发明具有低成本、无需复杂设备与技术、可大批量快速生产、微透镜阵列面积大有序度高、透镜大小深度可调、透镜表面光洁度高、聚焦性能好等优点。
搜索关键词: 聚合物 表面 微米 透镜 阵列 制备 方法
【主权项】:
1、一种聚合物表面的微米/亚微米微透镜阵列的制备方法,其特征在于该方法包括以下步骤:(1)通过自组装技术在聚合物的表面排列亚微米/微米二氧化硅微球,获得聚合物表面大面积高度有序的二维单层微球阵列;(2)将上述表面带有微球阵列的聚合物放入恒温箱中进行热处理;然后用HF酸溶液腐蚀除去二氧化硅微球,即可在聚合物的表面获得大面积高度有序的二维凹透镜阵列;(3)将上述聚合物凹透镜阵列作为模板压在另一聚合物表面,放入恒温箱进行热处理后脱模,可得另一聚合物的凸透镜阵列。
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