[发明专利]蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺

摘要

本发明涉及光电子器件的加工方法技术领域，尤其是一种制备蓝色发光二极管(LED)氮化镓(GaN)所用的蓝宝石衬底晶片的加工工艺，该加工工艺由粘片、塑性域磨削、研磨、粗抛、精抛、净化等几个步骤组成；本发明还涉及蓝宝石衬底晶片加工过程中使用的专用研磨液、腐蚀液、抛光液和清洗液，所述的专用研磨液由：球状聚晶金刚石微粉、橄榄油、煤油、色拉油构成；专用腐蚀液由：硫酸、磷酸、硝酸构成；专用抛光液则由溶胶型SiO₂、聚氧乙烯、橄榄油、醇胺以及去离子水构成；专用清洗液由：三氯乙烷、丙酮、A清洗液、B清洗液构成；当上述加工工艺和专用的研磨液、腐蚀液、抛光液和清洗液配合使用时，可以获得开盒即用的、无损伤层的、晶格完整的、蓝宝石晶体表面，表面粗糙度达到0.2纳米以下，满足氮化镓外延生长所需的本征化蓝宝石衬底表面，不仅提高蓝宝石衬底晶片的质量，而且大大缩短制备周期，从而节约生产成本，又达到提高劳动生产率的目的。

主权项

1.蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺，其特征在于它由塑性域磨削、微米级研磨、化学方法晶片平整化处理、纳米级化学机械抛光、开盒即用的晶片净化等几个关键步骤组成。