[发明专利]用以减低浸入式光刻系统中移动所导致的扰动的系统与方法

摘要

在一浸入式光刻系统中，一可移动基底单元由一基底与至少一光学组件，以及位于二者间的浸入液体而形成。该浸入液体与该光学组件相对于该基底共同地移动。在曝光扫描期间，该基底单元的移动减低由扰动所产生的折射率扰动。在动态轴向补偿群组中的组件可以移动，以补偿由轴向对称的偏向所导致的像差，且该偏向是由于在该基底单元中该光学组件的移动所致。在该基底单元中由浸入液体所填入的空间可以被动态地控制，以提供适当的工作距离。假如该基底单元中的该光学组件具有屈光力，则分辨率与焦深皆可以提高。即使假如该光学组件不具屈光力，则仍可以提高焦深。

主权项

1.一种液体浸入式光刻系统，包含：至少一个光学组件；一基底；以及位于该至少一个光学组件与该基底之间的一容积量之浸入液体，其中该至少一个光学组件、该基底以及该容积量之浸入液体被设置以在成像期间一致地移动。