[发明专利]超临界二氧化碳清洗系统与方法无效
| 申请号： | 200510097139.3 | 申请日： | 2005-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN1990126A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 陈政群;陈兴;刘权慧;黄家铭 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B11/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种超临界二氧化碳清洗系统，包含：一密闭高压清洗槽，形状为上宽下窄的漏斗型容器装置，提供一可乘载待清洗物件的载体平台及可活动喷嘴组的空间；一载体平台，位于该密闭高压清洗槽内，为一以该待洗物中心旋转的载体平台，并用以承载该待清洗物件；一可活动喷嘴组，组设于该密闭高压清洗槽内及载体平台的上方，使该超临界二氧化碳可经由该可活动喷嘴组来清洗该待清洗物件。一种超临界二氧化碳清洗方法，包含：将晶圆或待洗物置于密闭高压清洗槽；将液态二氧化碳输入该密闭高压清洗槽；添加共溶剂与界面活性剂于清洗槽；启动可活动喷嘴组，增进洗净功效；旋转晶圆或待洗物去除污染物；降压排放二氧化碳与污染物以洗净晶圆或待洗物。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 二氧化碳 清洗 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种超临界二氧化碳清洗系统，其特征在于，包含：一密闭高压清洗槽，该密闭高压清洗槽形状为上宽下窄的漏斗型容器装置，提供一可乘载待清洗物件的载体平台及可活动喷嘴组的空间，以利于被该超临界二氧化碳清洗以及利于杂质污染物沉积；一载体平台，该载体平台位于该密闭高压清洗槽内，为一以该待洗物中心旋转的载体平台，并用以承载该待清洗物件；一可活动喷嘴组，该可活动喷嘴组设于该密闭高压清洗槽内及该载体平台的上方，使该超临界二氧化碳可经由该可活动喷嘴组来清洗该待清洗物件。
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