[发明专利]光照设备、结晶设备、结晶方法、半导体器件及光调制元件

摘要

一种光照设备，包括具有相位调制区的光调制元件(1)，其中相位调制区具有至少一个用于调制光束的基本图案；照射系统(2)，其用光束照射光调制元件的相位调制区；以及图像形成光学系统(3)，使在照射目标表面上具有光强分布的光束落到照射目标物体(4)上，其中所述光强分布具有基于由所述相位调制元件相位调制的光束而形成的倒峰形图案。所述基本图案的尺寸不大于对光调制元件转换的图像形成光学系统的点扩展函数范围。设计所述相位调制区，使得照射目标表面上光复振幅分布中的相位分布在沿横向某一线段上为锯齿状分布。

主权项

1、一种光照设备，其特征在于包括：光调制元件，其具有至少一个单位相位调制区，其中该单位相位调制区具有至少一个用于调制光束的基本图案；照射系统，其用光束照射该光调制元件的该单位相位调制区；以及图像形成光学系统，其使得在照射目标表面上具有光强分布的光束落在照射目标物体上，其中该光强分布具有基于由所述相位调制元件相位调制的光束而形成的倒峰形图案，其中所述单位相位调制区的基本图案的尺寸不大于对光调制元件转换的图像形成光学系统的点扩展函数范围，并且设计所述单位相位调制区，使得照射目标表面上光复振幅分布中的相位分布为沿某一横向线段的锯齿状分布。