[发明专利]提高色域的电磁干扰屏蔽膜和使用它的等离子体显示器无效
| 申请号： | 200510098118.3 | 申请日： | 2005-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN1763865A | 公开（公告）日： | 2006-04-26 |
| 发明（设计）人： | 文东建;李尚旻;沈勉基;车准圭;林翼喆 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | G12B17/02 | 分类号： | G12B17/02;H05K9/00;H01J17/02;G09F9/313 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;王景朝 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种电磁干扰(EMI)屏蔽膜和包含该电磁干扰屏蔽膜的等离子体显示器。电磁干扰屏蔽膜包括：形成于透明基板上的粘附层；形成于粘附层上的金属花纹；透明选择性光吸收层，其包含透明材料和作为选择性光吸收材料的四氮杂卟啉化合物，并填充粘附层上金属花纹的空隙。电磁干扰屏蔽膜提供改进的色域，对比度，和热稳定性。因为电磁干扰屏蔽膜能屏蔽电磁干扰和提高色域，所以在制备滤光器中，粘合过程和其它附加过程的数目就可以减少。此外，电磁干扰屏蔽膜可以直接并很容易连接于等离子体显示器的面板上。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 电磁 干扰 屏蔽 使用 等离子体 显示器 | ||
【主权项】：
1、一种电磁干扰屏蔽膜，包括：形成于透明基板上的粘附层；形成于粘附层上的金属花纹；和包含透明材料和作为选择性光吸收材料的四氮杂卟啉化合物的透明选择性光吸收层，其用来填充粘附层上金属花纹的空隙。
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