[发明专利]起偏振片保护膜及其制造方法、起偏振片和液晶显示器有效
申请号: | 200510098151.6 | 申请日: | 2005-09-08 |
公开(公告)号: | CN1748980A | 公开(公告)日: | 2006-03-22 |
发明(设计)人: | 村上隆 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
主分类号: | B29C47/14 | 分类号: | B29C47/14;B29C47/88;B29C69/02;B29C55/02;B29K1/00;B29L7/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉;贾静环 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了用于制造起偏振片保护膜的方法,其包括以下步骤:提供包含总酰基取代度为2.5到2.9的纤维素树脂、增塑剂和受阻胺或受阻酚化合物的膜形成组合物,热熔化该膜形成组合物以获得熔化物,挤出该熔化物以成为薄片的形式,和冷却该挤出的薄片以形成膜,其中,基于纤维素树脂重量,该纤维素树脂含有1-50ppm的碱土金属和0.1-45ppm的残留的硫酸(依据硫含量)。 | ||
搜索关键词: | 偏振 保护膜 及其 制造 方法 液晶显示器 | ||
【主权项】:
1.根据熔体浇铸法制造起偏振片保护膜的方法,该方法包括以下步骤:提供包含总酰基取代度为2.5到2.9的纤维素树脂、增塑剂和0.01-5重量%的受阻胺或受阻酚化合物的膜形成组合物;热熔化该膜形成组合物以获得熔化物;挤出该熔化物以成为薄片的形式;和冷却该挤出的薄片以形成膜,其中,基于纤维素树脂重量,该纤维素树脂含有1-50ppm的碱土金属和0.1-45ppm的残留的硫酸,以硫含量计。
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