[发明专利]纳米晶硅/单晶硅异质结太阳能电池及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200510098526.9 申请日: 2005-09-02
公开(公告)号: CN1734793A 公开(公告)日: 2006-02-15
发明(设计)人: 朱美芳;张群芳;刘丰珍 申请(专利权)人: 中国科学院研究生院
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/18
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所 代理人: 罗文群
地址: 100049北京市石景山区玉泉*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种纳米晶硅/单晶硅异质结太阳能电池及其制备方法,属于太阳能电池器件制备技术领域。该太阳能电池依次由Al背电极、p型单晶硅、本征纳米晶硅、n型纳米晶硅、透明导电膜和金属栅极构成。本发明的太阳能电池,采用真空热蒸发法制备铝背电极;采用化学气相沉积方法依次生长本征和n掺杂纳米晶硅薄膜形成异质结结构;在异质结结构上采用真空蒸发或溅射法沉积透明导电膜作为前电极;在透明导电膜上采用蒸发技术形成Ag栅极,形成n-nc-Si:H/i-nc-Si:H/c-Si结构的薄膜太阳能电池。采用无织构的CZ单晶硅,电池转化效率17.18%(0.92cm2)。本发明所采用的工艺路线简单,易于实现。
搜索关键词: 纳米 单晶硅 异质结 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种纳米晶硅/单晶硅异质结太阳能电池,其特征在于该电池依次为金属Al背电极、p型单晶硅、本征纳米晶硅薄膜、n型纳米晶硅薄膜、透明导电膜和Ag栅极;所述的金属Al背电极的厚度为250~300微米;所述的本征纳米晶硅薄膜的厚度为5~10nm;所述的n型掺杂纳米晶硅薄膜的厚度为10~15nm;所述的透明导电薄膜的厚度为80~120nm;所述的Ag栅极的厚度为5~10微米,栅线宽度为30~150微米,间距为2~3mm;所述的p型单晶硅厚度为250~300微米。
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