[发明专利]电光装置、其制造方法以及电子设备无效
| 申请号： | 200510098617.2 | 申请日： | 2005-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN1743924A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 和野裕美;田中孝昭 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是，高效率制造能够进行高品质的显示的电光装置。通过在基板表面上叠层限制层和辅助层形成取向膜。限制层，具有在基板表面将电光物质的取向限制在特定方向的取向限制力。辅助层，作为限制层的下层设置，用于在取向限制力方面辅助限制层、具有在特定方向中的至少沿基板表面的方位角方向的取向限制力。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 装置 制造 方法 以及 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种电光装置，其特征在于：具有，一对基板；夹持在所述一对基板间的电光物质；以及取向膜，其形成在所述一对基板中的至少一方的基板上的面向所述电光物质的一侧的表面上；所述取向膜，在所述表面上，叠层有具有在所述表面上将所述电光物质的取向限制在特定方向的取向限制力的限制层，和作为所述限制层的下层设置的、为了在所述取向限制力方面辅助所述限制层的、具有在所述特定方向中的至少沿所述表面的方位角方向的取向限制力的辅助层。
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