[发明专利]新型闪烁晶体LaCl3:Ce3+的坩埚下降法生长工艺无效
申请号: | 200510099343.9 | 申请日: | 2005-09-14 |
公开(公告)号: | CN1932087A | 公开(公告)日: | 2007-03-21 |
发明(设计)人: | 陈红兵;杨培志;周昌勇;蒋成勇 | 申请(专利权)人: | 宁波大学;昆明物理研究所 |
主分类号: | C30B29/12 | 分类号: | C30B29/12;C30B11/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315211浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了新型闪烁晶体LaCl3:Ce3+的坩埚下降法生长工艺,该技术属于单晶生长领域。以LaCl3·7H2O和CeCl3·7H2O为初始原料,通过氯化焙烧脱水处理以制备无水氯化物LaCl3和CeCl3;按照适当CeCl3掺杂浓度制备LaCl3:Ce3+配合料,并掺入少量活性炭粉作为脱氧剂。采用特制铂坩埚填装籽晶和原料,将坩埚焊封后置于晶体生长炉中,控制炉温于920~980℃,调节坩埚位置使原料和籽晶熔接,形成温度梯度为20~50℃/厘米的固液界面,以0.3~3毫米/小时的速率进行坩埚下降晶体生长,可生长出优质完整的LaCl3:Ce3+单晶。该工艺解决了无水原料制备、熔体氧化和挥发等关键技术问题,可在非真空密闭坩埚条件下批量生长LaCl3:Ce3+单晶。 | ||
搜索关键词: | 新型 闪烁 晶体 lacl sub ce sup 坩埚 下降 生长 工艺 | ||
【主权项】:
1、LaCl3:Ce3+单晶的坩埚下降法生长工艺,包括原料制备、晶体生长、晶体加工等步骤,其特征在于:通过氯化焙烧脱水处理制备严格无水氯化物原料,添加少量活性碳粉作为氯化物原料的除氧剂;密封铂坩埚以避免熔体氧化和挥发,控制适当工艺条件进行坩埚下降晶体生长;采用油性磨料进行晶体加工,通过镀膜处理以避免晶体潮解。
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