[发明专利]用于掩模板的透明基片及掩模板有效
| 申请号： | 200510099938.4 | 申请日： | 2005-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1749853A | 公开（公告）日： | 2006-03-22 |
| 发明（设计）人： | 小池今朝广;铃木修;河原明宏 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在需要具有预定光学特性的用于掩模板的透明基片中，通过切割预定的角部分成为倾斜部分形成基片标记。该标记的形状根据该基片的光学特性加以确定。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 模板 透明 | ||
【主权项】：
1.一种用于掩模板的透明基片，其需要具有预定的光学特性，包括：一个基片标记，其通过将预定角部分切割成倾斜剖面而形成，该基片标记具有根据光学特性确定的形状。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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