[发明专利]显影装置及制造方法、成像设备、成像系统和充电构件有效
| 申请号： | 200510102862.6 | 申请日： | 2005-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1749876A | 公开（公告）日： | 2006-03-22 |
| 发明（设计）人： | 冈本克巳 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/06 | 分类号： | G03G15/06;G03G15/01;B29C41/04 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种能够抑制发生雾化的显影装置。该显影装置设置有：用于承载显影剂的显影剂承载构件；和用于对显影剂承载构件所承载的显影剂充电的充电构件。充电构件具有：第一层，其被放置来接触显影剂承载构件并且包含导电剂；和第二层，其相对于第一层定位在与显影剂承载构件相反的一侧上，并且包含有密度大于第一层中包含的导电剂密度的导电剂。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 装置 制造 方法 成像 设备 系统 充电 构件 | ||
【主权项】：
1.一种显影装置，包括：用于承载显影剂的显影剂承载构件；和用于对所述显影剂承载构件所承载的显影剂充电的充电构件，所述充电构件具有：第一层，其被放置来接触所述显影剂承载构件并且包含导电剂；和第二层，其相对于所述第一层定位在与所述显影剂承载构件相反的一侧上，并且包含有密度大于所述第一层中包含的导电剂密度的导电剂。
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