[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200510102868.3 申请日: 2005-09-13
公开(公告)号: CN1755927A 公开(公告)日: 2006-04-05
发明(设计)人: 关口正博 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L23/52 分类号: H01L23/52;H01L21/768
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体器件及其制造方法,能够一并加工半导体晶片,由于通过用布线用树脂膜夹着半导体晶片,作为基体材料处理,因而能够提高产量。具有:夹着半导体元件(1)的第1及第2布线用树脂膜(3、3a)、分别形成在夹着所述半导体元件的第1及第2布线用树脂膜的露出的表面上的布线图形(4、4a)、形成在所述第2布线用树脂膜的露出的表面上的外部连接端子(8)。形成在第1布线用树脂膜上的布线图形(4),通过连接布线(5)与半导体元件电连接,形成在第2布线用树脂膜上的布线图形(4a),通过连接布线(6)与形成在第1布线用树脂膜上的布线图形(4)电连接。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,其特征在于:具有,半导体元件;夹着所述半导体元件的第1及第2布线用树脂膜;分别形成在夹着所述半导体元件的第1及第2布线用树脂膜的露出的表面上的布线图形;形成在所述第2布线用树脂膜的布线图形露出的表面上的外部连接端子;形成在所述第1布线用树脂膜上的布线图形,与所述半导体元件电连接;形成在所述第2布线用树脂膜上的布线图形,与形成在所述第1布线用树脂膜上的布线图形电连接。
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