[发明专利]不具核心介电层的芯片封装体制程有效
申请号: | 200510103416.7 | 申请日: | 2005-09-15 |
公开(公告)号: | CN1933117A | 公开(公告)日: | 2007-03-21 |
发明(设计)人: | 潘玉堂;沈更新;林俊宏 | 申请(专利权)人: | 南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60;H01L23/48;H01L23/31;H01L25/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出一种不具核心介电层的芯片封装体制程,其步骤包括先提供导电层,其中导电层具有第一表面与第二表面。在第一表面形成第一膜片,并且将导电层图案化,以形成图案化线路层。在图案化线路层上形成焊罩层,并将焊罩层图案化,以暴露出图案化线路层的部分区域。在焊罩层上形成第二膜片,并且移除第一膜片,之后将芯片配置在第一表面,并使芯片电性连接到图案化线路层。形成封装胶体,以包覆图案化线路层,并将芯片固定在图案化线路层上,之后移除第二膜片。 | ||
搜索关键词: | 不具 核心 介电层 芯片 封装 体制 | ||
【主权项】:
1、一种芯片封装体制程,其特征在于其包括:提供一导电层,其中该导电层具有一第一表面与一第二表面;在该第一表面形成一焊罩层,并将该焊罩层图案化,以暴露出该导电层的部分区域;在该焊罩层上形成一膜片;将该导电层图案化,以形成一图案化线路层;将一芯片配置在该第二表面,并使该芯片电性连接到该图案化线路层;形成一封装胶体,以包覆该图案化线路层,并将该芯片固定在该图案化线路层上;以及移除该膜片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司,未经南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510103416.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造