[发明专利]具有空间周期变化的点矩阵全像及其制法有效
| 申请号： | 200510103636.X | 申请日： | 2005-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1818722A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 李威汉 | 申请（专利权）人： | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种可降低记录光阻记录材料非线性效应的绕射单元，它可以产生明亮多彩的绕射图案，并揭示其记录的方法。同时也揭示利用本发明方法所制作的交错光栅。一组绕射花纹是由多重复合的单元所形成，且至少一单元中的绕射周期具有空间变化。目前已发现具有空间周期变化的特性，能补偿例如材料的非线性特性或结构内部隙缝所造成降低谐波的效应，进而改善色彩效果。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 空间 周期 变化 矩阵 及其 制法 | ||
【主权项】：
1、一种具有空间周期变化的点矩阵全像，其特征在于，包括：一载体具有光学变化表面的花纹；该花纹包含复数个绕射单元；至少有一该绕射单元的内部具有一绕射花纹；该绕射花纹具有空间周期变化。
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