[发明专利]制程处理室中阴极的射频接地

摘要

一种用以在一制程处理室壁以及一基材支撑件间提供一短RF电流返回电流路径的设备。该RF接地设备为RF接地并位于基材传送埠之上，其仅在基材制程期间(例如沉积)与基材支撑件形成电性接触，以提供RF电流返回电流路径。该RF接地设备的一实施例至少包含一或多个低阻抗可弯曲幕状物，其可电性连接至接地处理室壁，并接至一或多个低阻抗档体，其在基材制程期间可与基材支撑件接触。该RF接地设备的另一实施例包含数个低阻抗可弯曲条体，其可电性连接至接地处理室壁，并接至一或多个低阻抗档体，其在基材制程期间可与基材支撑件接触。该RF接地设备的另一实施例包含数个探针，其可电性连接至接地处理室壁或由其它装置作接地，以及数个附有探针的致动器。该等致动器可移动探针以在基材制程期间电性接触基材支撑件。

主权项

1.一种用以在一制程处理室壁及一由制程处理室壁封围的基材支撑件之间提供一RF电流返回路径的设备，其特征在于，至少包含：一制程处理室壁，其具有一基材传送埠；一基材支撑件，由制程处理室壁封围，且适于移动于一制程位置及一非制程位置之间；以及一RF接地组件，安装至制程处理室壁，该RF接地组件位于基材传送埠之上，且在基材支撑件位于制程位置时可接触基材支撑件。