[发明专利]一种微结构及其制造方法无效
| 申请号： | 200510103765.9 | 申请日： | 2005-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN1935627A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 蔡欣昌;张育儒;邢泰刚 | 申请（专利权）人： | 台达电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/00 | 分类号： | B81B7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种微结构包括一基板以及一光致抗蚀剂层。该基板具有一表面，而该光致抗蚀剂层设置于该基板的该表面上并具有至少一凹部，该凹部具有一侧壁、一深度与一宽度。其中，该侧壁的倾斜角度不小于5度，且该深度与该宽度的比值不小于2。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种微结构，包括：一基板，具有一表面；以及一结构层，设置于该基板的该表面上并具有至少一凹部，且该凹部具有一侧壁、一深度与一宽度；其中，该凹部的加工精度不大于0.01mm，且该侧壁的倾斜角度不小于5度，且该深度与该宽度的比值不小于2。
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