[发明专利]光学邻近校正光掩模及彩色滤光片的制造方法有效
| 申请号： | 200510103767.8 | 申请日： | 2005-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN1936702A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 吴心平;林家辉 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G02B5/23;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学邻近校正光掩模，适用于制作一彩色滤光片，包括基板、光掩模图案及修补图案。其中，光掩模图案配置于基板上，光掩模图案与转移至彩色滤光片的一转移图案不匹配，使得彩色滤光片具有漏光区域。修补图案配置于基板上的光掩模图案的周边，与漏光区域的位置相对应。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 校正 光掩模 彩色 滤光 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学邻近校正光掩模，适用于制作一彩色滤光片，该彩色滤光片上具有一转移图案，该光学邻近校正光掩模包括：一基板；一光掩模图案，配置于该基板上，该光掩模图案与转移至该彩色滤光片的该转移图案不匹配，使得该彩色滤光片具有一漏光区域；以及一修补图案，配置于与该漏光区域相对应的位置。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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