[发明专利]互补式金属氧化物半导体图像传感器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 200510103846.9 申请日: 2005-09-12
公开(公告)号: CN1933168A 公开(公告)日: 2007-03-21
发明(设计)人: 杨进盛 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/82
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陈小雯;李晓舒
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种整合单晶体管静态随机存取存储器的互补式金属氧化物半导体图像传感器,包括一衬底,该衬底具有一像素阵列、一逻辑电路、以及多个单晶体管静态随机存取存储器(1T-SRAM),且该素阵列、该逻辑电路、以及该些1T-SRAM是由多个浅沟隔离所隔离。且该1T-SRAM是于各元件的逻辑工艺中仅增加一光掩模即可整合于该互补式金属氧化物半导体图像传感器内。
搜索关键词: 互补 金属 氧化物 半导体 图像传感器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种整合单晶体管静态随机存取存储器的互补式金属氧化物半导体图像传感器,包括:一衬底,该衬底定义有一像素阵列区、一逻辑电路区、以及一存储器区;一像素阵列,设于该像素阵列区;一逻辑电路,设于该逻辑电路区;以及多个单晶体管静态随机存取存储器,设于该存储器区。
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