[发明专利]用于密封腔室的方法和装置有效
| 申请号： | 200510103894.8 | 申请日： | 2005-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN1778986A | 公开（公告）日： | 2006-05-31 |
| 发明（设计）人： | J·M·怀特;S·库利塔;W·N·斯特林;Y·塔纳斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54;C03C17/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾峻峰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在特定的方面，提供了一种真空隔绝室，其包括具有至少一个封接面壁的主体，该封接面壁包括封接面。封接面壁具有与封接面相邻的、适于放入和取出基板的开口。主体进一步包括多个侧壁。真空隔绝室还包括与主体相连接的顶部。顶部包括一个或多个将顶部划分为第一部分和第二部分的开口。真空隔绝室进一步包括一个或多个适于覆盖顶部的每个开口的密封件。每个顶部密封件消减顶部第一部分相对于顶部第二部分的运动。本发明还提供了许多其它方面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 密封 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种真空隔绝室包括：主体，其具有：至少一个包括封接面的封接面壁，封接面壁具有与封接面相邻的、适于放入和取出基板的开口；以及多个侧壁；与主体连接的顶部，其中顶部包括一个或多个将顶部划分成第一部分和第二部分的开口；以及一个或多个适于覆盖顶部的每个开口的顶部密封件，其中每个顶部密封件吸收顶部第一部分相对于顶部第二部分的运动。
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