[发明专利]具有真空消除容积的真空发生单元有效
| 申请号： | 200510103934.9 | 申请日： | 2005-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN1749580A | 公开（公告）日： | 2006-03-22 |
| 发明（设计）人： | 俞在昶 | 申请（专利权）人： | 新荣制御器株式会社 |
| 主分类号： | F04F5/54 | 分类号： | F04F5/54 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 孙纪泉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种真空发生单元被提供。所述真空发生单元包括：压力流体控制阀，其由导向电子阀控制；主体部分，其具有连接到压力流体控制阀的一个侧部；压力流体供应端口，其设置在主体部分的另一侧并被供以压力流体；真空端口，其用于形成和消除真空；和排放端口，通过该排放端口经过压力流体供应端口或真空端口的压力流体被排放，其中，在主体部分中形成通过从压力流体供应端口供应的压力流体在真空端口产生真空的真空发生部分、以及用于储存压力流体以消除在真空端口中形成的真空的第一和第二压力流体储存部分。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 真空 消除 容积 发生 单元 | ||
【主权项】：
1.一种真空发生单元，包括：压力流体控制阀，其由导向电子阀控制；主体部分，其具有连接到压力流体控制阀的一个侧部；压力流体供应端口，其设置在主体部分的另一侧并被供以压力流体；真空端口，其用于形成和消除真空；和排放端口，在该排放端口中经过压力流体供应端口或真空端口的压力流体被排放，其中，在主体部分中形成通过从压力流体供应端口供应的压力流体在真空端口产生真空的真空发生部分、以及用于储存压力流体以消除在真空端口中形成的真空的第一和第二压力流体储存部分。
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