[发明专利]掩模板提供系统、掩模板、掩模板透明基片的制造方法有效

专利信息
申请号: 200510103988.5 申请日: 2005-09-16
公开(公告)号: CN1749851A 公开(公告)日: 2006-03-22
发明(设计)人: 铃木修;赤川裕之;田边胜;川口厚;石桥直纯 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/08;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 秦晨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时,掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
搜索关键词: 模板 提供 系统 透明 制造 方法
【主权项】:
1.一种掩模板提供系统,包括:基片信息存储装置,用于按照与掩模板透明基片相关联的方式保存掩模板透明基片相对于曝光波长的光学特性信息,该掩模板透明基片将提供给掩模板制造部分;掩模板信息存储装置,用于按照与掩模板相关联的方式保存掩模板相对于曝光波长的光学特性信息,该掩模板将提供给掩模制造部分;基片信息提供装置,用于向掩模板制造部分和/或所述掩模制造部分提供保存在基片信息存储装置内的掩模板透明基片相对于曝光波长的光学特性信息;和掩模板信息提供装置,用于向掩模制造部分提供保存在掩模板信息存储装置内的掩模板相对于曝光波长的光学特性信息。
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