[发明专利]掩模板提供系统、掩模板、掩模板透明基片的制造方法有效
申请号: | 200510103988.5 | 申请日: | 2005-09-16 |
公开(公告)号: | CN1749851A | 公开(公告)日: | 2006-03-22 |
发明(设计)人: | 铃木修;赤川裕之;田边胜;川口厚;石桥直纯 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/08;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时,掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。 | ||
搜索关键词: | 模板 提供 系统 透明 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩模板提供系统,包括:基片信息存储装置,用于按照与掩模板透明基片相关联的方式保存掩模板透明基片相对于曝光波长的光学特性信息,该掩模板透明基片将提供给掩模板制造部分;掩模板信息存储装置,用于按照与掩模板相关联的方式保存掩模板相对于曝光波长的光学特性信息,该掩模板将提供给掩模制造部分;基片信息提供装置,用于向掩模板制造部分和/或所述掩模制造部分提供保存在基片信息存储装置内的掩模板透明基片相对于曝光波长的光学特性信息;和掩模板信息提供装置,用于向掩模制造部分提供保存在掩模板信息存储装置内的掩模板相对于曝光波长的光学特性信息。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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