[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200510104095.2 | 申请日： | 2005-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1752851A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | C·A·胡根达姆;J·H·W·贾科布斯;N·坦卡特;F·范德穆伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在扫描浸式光刻装置中，浸液被提供到投影系统和基底之间的空间的一侧上，并从另一侧排出，使得液体的流动基本上与扫描方向垂直。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，其布置成使用投影系统把图案从构图部件投影到基底上，同时相对于投影系统沿第一方向扫描基底，其包括：布置成将液体提供到投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，该液体供给系统包括液体供给口和液体排放口，该液体供给口和排放口设置在空间的相对侧上，使得液体沿基本上与第一方向垂直的方向流过所述空间。
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