[发明专利]n+/p型GaAs太阳电池表面高透射率窗口层的制备方法无效
申请号: | 200510105262.5 | 申请日: | 2005-09-28 |
公开(公告)号: | CN1941427A | 公开(公告)日: | 2007-04-04 |
发明(设计)人: | 白一鸣;陈诺夫;梁平;孙红;胡颖;王晓东 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种n+/p型砷化镓太阳电池表面高透射率窗口层锌硒硫的制备方法,包括如下步骤:以p型砷化镓或锗单晶片为衬底;利用金属有机化合物气相沉积法、分子束外延生长技术,生长n+/p型太阳电池外延片,外延至顶电池的发射区层;在发射区层上外延一层锌硒硫材料作为窗口层;在窗口层上外延高掺杂的砷化镓帽子层,完成电池外延片的制备;在外延片的上面蒸镀金锗镍/金正电极,在外延片底层高掺杂的砷化镓上面制作钛/金背电极;腐蚀帽子层、合金、蒸镀减反射膜、腐蚀台面、对电池组件进行封装,安装聚光装置、冷却装置及对日跟踪装置,完成电池的制作。 | ||
搜索关键词: | sup gaas 太阳电池 表面 透射率 窗口 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种n+/p型砷化镓太阳电池表面高透射率窗口层锌硒硫的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:以p型砷化镓或锗单晶片为衬底;步骤2:利用金属有机化合物气相沉积法、分子束外延生长技术,生长n+/p型太阳电池外延片,外延至顶电池的发射区层;步骤3:在发射区层上外延一层锌硒硫材料作为窗口层;步骤4:在窗口层上外延高掺杂的砷化镓帽子层,完成电池外延片的制备;步骤5:在外延片的上面蒸镀金锗镍/金正电极,在外延片底层高掺杂的砷化镓上面制作钛/金背电极;步骤6:腐蚀帽子层、合金、蒸镀减反射膜、腐蚀台面、对电池组件进行封装,安装聚光装置、冷却装置及对日跟踪装置,完成电池的制作。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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