[发明专利]n+/p型GaAs太阳电池表面高透射率窗口层的制备方法无效

专利信息
申请号: 200510105262.5 申请日: 2005-09-28
公开(公告)号: CN1941427A 公开(公告)日: 2007-04-04
发明(设计)人: 白一鸣;陈诺夫;梁平;孙红;胡颖;王晓东 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种n+/p型砷化镓太阳电池表面高透射率窗口层锌硒硫的制备方法,包括如下步骤:以p型砷化镓或锗单晶片为衬底;利用金属有机化合物气相沉积法、分子束外延生长技术,生长n+/p型太阳电池外延片,外延至顶电池的发射区层;在发射区层上外延一层锌硒硫材料作为窗口层;在窗口层上外延高掺杂的砷化镓帽子层,完成电池外延片的制备;在外延片的上面蒸镀金锗镍/金正电极,在外延片底层高掺杂的砷化镓上面制作钛/金背电极;腐蚀帽子层、合金、蒸镀减反射膜、腐蚀台面、对电池组件进行封装,安装聚光装置、冷却装置及对日跟踪装置,完成电池的制作。
搜索关键词: sup gaas 太阳电池 表面 透射率 窗口 制备 方法
【主权项】:
1、一种n+/p型砷化镓太阳电池表面高透射率窗口层锌硒硫的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:以p型砷化镓或锗单晶片为衬底;步骤2:利用金属有机化合物气相沉积法、分子束外延生长技术,生长n+/p型太阳电池外延片,外延至顶电池的发射区层;步骤3:在发射区层上外延一层锌硒硫材料作为窗口层;步骤4:在窗口层上外延高掺杂的砷化镓帽子层,完成电池外延片的制备;步骤5:在外延片的上面蒸镀金锗镍/金正电极,在外延片底层高掺杂的砷化镓上面制作钛/金背电极;步骤6:腐蚀帽子层、合金、蒸镀减反射膜、腐蚀台面、对电池组件进行封装,安装聚光装置、冷却装置及对日跟踪装置,完成电池的制作。
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