[发明专利]隔离各种操作电压的集成电路的半导体结构无效

专利信息
申请号: 200510105602.4 申请日: 2005-09-28
公开(公告)号: CN1783493A 公开(公告)日: 2006-06-07
发明(设计)人: 刘俊秀;张启宣;宋自强;陈忠义;黄志博 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/76
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明是有关于一种隔离各种操作电压的集成电路的半导体结构,包括一隔离环位于半导体基材上,并环绕第一电路区与第二电路区。埋入隔离层连续地延伸穿过半导体基材中的第一电路区与第二电路区。埋入隔离层与隔离环交接,藉以将第一电路区及第二电路区与半导体基材的背面偏压隔离。经离子强化隔离层,将位于第一电路区的第一井及第二电路区的第二井与隔离环及埋入隔离层分开,藉以防止穿孔穿过第一与第二电路区的第一井及第二井与埋入隔离层之间。
搜索关键词: 隔离 各种 操作 电压 集成电路 半导体 结构
【主权项】:
1、一种半导体结构,用以隔离在不同电压下操作的一第一电路区与一第二电路区,其特征在于其中所述的半导体结构至少包括:一隔离环,位于一半导体基材上,并围绕该第一电路区与该第二电路区;以及一埋入隔离层,连续地延伸穿过该半导体基材中的该第一电路区与该第二电路区,其中该埋入隔离层与该隔离环交接,藉以将该第一电路区及该第二电路区与该半导体基材的一背面偏压隔离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510105602.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top