[发明专利]钢基体高能离子注入碳化钨(WC)梯度材料制造方法无效
申请号: | 200510105780.7 | 申请日: | 2005-09-29 |
公开(公告)号: | CN1940120A | 公开(公告)日: | 2007-04-04 |
发明(设计)人: | 赵维扬;田云峰;徐实 | 申请(专利权)人: | 包头市中天宏远科技有限公司 |
主分类号: | C23C10/06 | 分类号: | C23C10/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 014010内蒙古自治区包*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 本发明涉及一种钢基体高能离子注入碳化钨(WC)梯度材料制造方法,本发明通过在低真空情况下适当充入惰性气体,且在异常辉光放电条件下,形成高能钨离子和惰性气体离子。首先将钢基体进行气体软氮化处理后,然后在一定温度下,将金属钨离子注入到钢基体中,再对钨进行碳化处理;或者首先将钢基体进行气体软氮化处理后,再进行金属钨离子和碳离子的双离子高能注入。该方法可以在钢基体的表层形成一定深度的碳化钨合金层,提高了金属表面的硬度,改善了钢制零部件的耐磨性和自润滑性。用本发明制造的产品具有高硬度、高强度、高耐磨、耐腐蚀等优点,并显著地提高了钢制零部件的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 基体 高能 离子 注入 碳化 wc 梯度 材料 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种钢基体高能离子注入碳化钨(WC)梯度材料制造技术,其特征在于把钢基体置于真空室内,在低真空情况下适当充入惰性气体,并将钨材料置于阴极内。在异常辉光放电条件下,产生高能钨离子和惰性气体离子。在一定温度下,将金属钨离子注入到钢基体中。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体,例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体,例如粉末、膏剂的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
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C23C10-28 .使用固体,例如粉末、膏剂的