[发明专利]MOS图像传感器有效
申请号: | 200510106327.8 | 申请日: | 2005-09-22 |
公开(公告)号: | CN1835243A | 公开(公告)日: | 2006-09-20 |
发明(设计)人: | 大川成美;竹田重利;石原行宏;林一树;直理修久;千千岩雅弘 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | H01L27/14 | 分类号: | H01L27/14;H01L31/10 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑小军;郑特强 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种MOS图像传感器,其包括:半导体衬底,其具有许多个设置成矩阵形式的像素,该半导体衬底包括包含光电二极管的电荷聚积区和浮动扩散区的第一区以及包含多个晶体管的第二区,每个晶体管具有栅极和源极/漏极区;第一二氧化硅膜,其形成在该半导体衬底上方,覆盖该第一区中的该电荷聚积区的表面,并形成为该第二区中至少一些晶体管的栅极侧壁上的侧壁间隔物;以及氮化硅膜,其形成该第一二氧化硅膜上方,覆盖该第二区中的源极/漏极区并且至少在该第一区中的该电荷聚积区上方的区域中具有开口。本发明提供的半导体图像传感器具有高灵敏度并能够以低噪声提供输出。 | ||
搜索关键词: | mos 图像传感器 | ||
【主权项】:
1.一种半导体图像传感器,包括:半导体衬底,其具有许多个像素,所述半导体衬底包括第一区和第二区,所述第一区包含光电二极管的电荷聚积区和浮动扩散区,所述第二区包含均具有栅极和源极/漏极区的多个晶体管;第一二氧化硅膜,其形成在所述半导体衬底上方,覆盖所述第一区中的所述电荷聚积区的表面,并形成为所述第二区中至少一些晶体管的栅极侧壁上的侧壁间隔物;以及氮化硅膜,其形成所述第一二氧化硅膜上方,覆盖所述第二区中的源极/漏极区并且至少在所述第一区中的所述电荷聚积区上方的区域中具有开口。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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