[发明专利]MOS图像传感器有效

专利信息
申请号: 200510106327.8 申请日: 2005-09-22
公开(公告)号: CN1835243A 公开(公告)日: 2006-09-20
发明(设计)人: 大川成美;竹田重利;石原行宏;林一树;直理修久;千千岩雅弘 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14;H01L31/10
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 郑小军;郑特强
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种MOS图像传感器,其包括:半导体衬底,其具有许多个设置成矩阵形式的像素,该半导体衬底包括包含光电二极管的电荷聚积区和浮动扩散区的第一区以及包含多个晶体管的第二区,每个晶体管具有栅极和源极/漏极区;第一二氧化硅膜,其形成在该半导体衬底上方,覆盖该第一区中的该电荷聚积区的表面,并形成为该第二区中至少一些晶体管的栅极侧壁上的侧壁间隔物;以及氮化硅膜,其形成该第一二氧化硅膜上方,覆盖该第二区中的源极/漏极区并且至少在该第一区中的该电荷聚积区上方的区域中具有开口。本发明提供的半导体图像传感器具有高灵敏度并能够以低噪声提供输出。
搜索关键词: mos 图像传感器
【主权项】:
1.一种半导体图像传感器,包括:半导体衬底,其具有许多个像素,所述半导体衬底包括第一区和第二区,所述第一区包含光电二极管的电荷聚积区和浮动扩散区,所述第二区包含均具有栅极和源极/漏极区的多个晶体管;第一二氧化硅膜,其形成在所述半导体衬底上方,覆盖所述第一区中的所述电荷聚积区的表面,并形成为所述第二区中至少一些晶体管的栅极侧壁上的侧壁间隔物;以及氮化硅膜,其形成所述第一二氧化硅膜上方,覆盖所述第二区中的源极/漏极区并且至少在所述第一区中的所述电荷聚积区上方的区域中具有开口。
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