[发明专利]电子射线装置的制造方法无效
| 申请号： | 200510106382.7 | 申请日： | 2005-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN1770355A | 公开（公告）日： | 2006-05-10 |
| 发明（设计）人： | 伊庭润;东尚史 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/00 | 分类号： | H01J9/00;H01J9/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在电子射线发射元件的制造方法中，检测成为阴极基板上的不需要的电子发射部的杂散发射源的位置，在该检测位置上局部地赋予能量，从而除去杂散发射源。由此，提供没有因突发放电而导致的部件劣化、障碍的良好的电子射线装置。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 射线 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电子射线装置的制造方法，其特征在于，具有检测阴极基板上的杂散发射源即SE源的位置的SE检测工序，和在该SE检测工序检测到的SE源的位置上局部地赋予除去SE的能量的SE除去工序。
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