[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供可高精度地检测可能与狭缝喷嘴接触的异物等的狭缝式涂敷机。可挠性平板(61)配置在狭缝喷嘴(1)的行进前方侧(+X侧)，激光向平板(61)的后方侧(－X侧)照射。在涂敷处理中在狭缝喷嘴(1)应该行进的基板90上，存在异物等被检测物体(NG)的情况下，在被检测物体(NG)与狭缝喷嘴(1)接触之前，被检测物体(NG)与平板(61)接触。平板(61)一旦与被检测物体(NG)接触，其一部分会发生挠性变形向－X侧相对移动，遮断激光。基于此激光受光量的减少，可以检测出被检测物体(NG)。

主权项

1.一种基板处理装置，将处理液涂敷在被保持于保持面的基板上，其特征在于，具有：喷嘴：能够从沿着与上述保持面大致平行的第1方向延伸的狭缝状喷出口向上述基板喷出处理液；移动机构：通过使上述喷嘴相对于上述基板在第2方向移动，上述喷嘴相对于上述基板进行喷出扫描，上述第2方向与上述保持面大致平行且垂直于上述第1方向；检测用构件：相对于上述喷嘴，相对固定在上述喷出扫描的上述喷嘴行进的前方侧，且其沿着上述第1方向延伸；检测机构：检测上述检测用构件的相对移动，上述检测用构件的相对移动是在上述排液扫描过程中由被检测物体与上述检测用构件相接触所产生的，且是相对于上述喷嘴向与上述前方侧相反的后方侧的相对移动。