[发明专利]清洗系统及其操作方法无效
| 申请号： | 200510107016.3 | 申请日： | 2005-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN1939608A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 黄政忠;宋坤森;陈宏苑 | 申请（专利权）人： | 力晶半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种清洗系统，适用于清洗检测电极，清洗系统包括套筒、伸缩件及清洗装置。上述套筒套接于检测电极的基座上，且套筒内壁与基座贴合，其中套筒侧壁具有至少一第一开孔，以暴露出检测电极的感测部，且套筒底部具有多个第二开孔。另外，伸缩件与套筒连接，以使套筒可上下移动。清洗装置将清洗液注入套筒中，以清洗检测电极。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 系统 及其 操作方法 | ||
【主权项】：
1、一种清洗系统，适用于清洗一检测电极，该清洗系统包括：一套筒，套接于该检测电极的一基座上，且该套筒内壁与该基座贴合，其中该套筒侧壁具有至少一第一开孔暴露出该检测电极的一感测部，且该套筒底部具有多个第二开孔；一伸缩件，与该套筒连接，使该套筒可上下移动；以及一清洗装置，将一清洗液注入该套筒中，以清洗该检测电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力晶半导体股份有限公司，未经力晶半导体股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510107016.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
