[发明专利]图案及配线形成方法、半导体装置、TFT器件、电光学装置

摘要

本发明提供在基板的表面成为配线的形成微细图案的图案形成方法、配线形成方法、半导体装置、TFT器件、电光学装置和电子仪器。其特征在于：使用液滴喷出装置(40)形成的TFT1的栅配线(3)和栅电极(5)，具有：由Mn构成的栅中间层(10)、由Ag构成的栅导电层(11)、由Ni构成的栅被覆层(12)。配线的形成工序具有：为了设置具有与TFT基板2的密接性、而且对于形成导电层(11)的液滴(32)具有亲液性的中间层，而对于栅配线区域(3a)和栅电极区域(5a)喷出中间层形成功能液的液滴(31)的工序；用于与栅中间层重叠形成栅导电层(11)而对于栅配线区域(3a)喷出液滴(32)的工序；和通过与栅中间层(10)的亲液性使液滴(32)自己流动到栅电极区域(5a)的工序。

主权项

1.一种图案形成方法，是使用液滴喷出装置由喷出功能液的液滴的方法，在基板表面上形成功能层之图案的图案形成方法，其特征在于：其中形成上述图案的图案区域由边界层镶边，具有第1区域和与上述第1区域连接并具有比上述第1区域更窄的宽度的第2区域；所述方法具有：在上述第1区域和上述第2区域中，形成与上述基板具有密接性的同时对于上述功能液具有亲液性的中间层的工序；对于上述第1区域喷出上述功能液的液滴的工序；和通过与上述中间层的亲液性使向上述第1区域喷出的上述功能液的液滴自己流动到上述第2区域中的工序。