[发明专利]具有反应副产物沉积防止装置的排气管和沉积防止方法无效
| 申请号： | 200510109632.2 | 申请日： | 2001-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN1821441A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 驹井哲夫;野村典彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;H01L21/31 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种排气管，具有防止包含在从反应真空室等排气用排气管中的物质在排气管内表面上沉积堆积的效果。本发明的排气管，其特征在于，具有：在内部有排气通路的内筒，设置在该内筒外侧的外筒；在内筒和外筒之间形成的密闭空间；以及在外筒中设置的用于将液氮等极低温冷却介质导入上述密封空间以形成冻结膜的冷却介质导入口。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反应 副产物 沉积 防止 装置 排气管 方法 | ||
【主权项】：
1.一种排气管，其特征在于，具有：在内部有排气通路的内筒，设置在该内筒外侧的外筒；在内筒和外筒之间形成的密闭空间；以及在外筒中设置的用于将液氮等极低温冷却介质导入上述密封空间以形成冻结膜的冷却介质导入口。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
