[发明专利]发光二极管及其电极压焊点的形成方法无效

专利信息
申请号: 200510110301.0 申请日: 2005-11-11
公开(公告)号: CN1964083A 公开(公告)日: 2007-05-16
发明(设计)人: 江忠永 申请(专利权)人: 杭州士兰明芯科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/28
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陈亮
地址: 310018浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了发光二极管电极压焊点的形成方法,提供一个包含p电极区和n电极区的LED芯片,所述p电极区上包括第一金属层,所述方法进一步包括:步骤一,形成一光刻胶层在所述LED芯片的p和n电极区上;步骤二,在所述p和n电极区的光刻胶层上通过光刻形成压焊点的掩膜窗口;步骤三,在所述光刻胶掩膜上沉积第二、第三金属层;步骤四,移除光刻胶层以及其上的第二、第三金属层,保留沉积在掩模窗口中的第二、三金属层作为压焊点。本发明的发光二极管,包括:一LED芯片,所述芯片上包括p电极区和n电极区,所述p电极区上包括第一金属层构成p电极;第二、三金属层,设置在所述LED芯片上的局部p电极上和局部n电极区上。
搜索关键词: 发光二极管 及其 电极 压焊点 形成 方法
【主权项】:
1、发光二极管电极压焊点的形成方法,提供一个包含p电极区和n电极区的LED芯片,所述p电极区上包括第一金属层,所述方法进一步包括:步骤一,形成一光刻胶层在所述LED芯片的p和n电极区上;步骤二,在所述p和n电极区的光刻胶层上通过光刻形成压焊点的掩膜窗口;步骤三,在所述光刻胶掩膜上沉积第二、第三金属层;步骤四,移除光刻胶层以及其上的第二、第三金属层,保留沉积在掩模窗口中的第二、三金属层作为压焊点。
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