[发明专利]负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法无效
| 申请号： | 200510110435.2 | 申请日： | 2005-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN1793200A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 姜学松;李浩;印杰 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 罗荫培 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了下式所示的一类负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法。该聚酰亚胺光敏材料以2，4－二羟基间苯二胺盐酸盐，二胺单体和二酸酐为原料进行聚合，得到分子链上含羟基的聚酰亚胺，然后使羟基与丙烯酸及其衍生物的酰氯发生酯化反应，得到具有负性感光性能的聚酰亚胺光敏材料。这类负性聚酰亚胺光敏材料具有高的光敏性和分辨率，良好的热性能和有机溶解性，在航空、微电子等领域有着广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 聚酰亚胺 光敏 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种负性聚酰亚胺光敏材料，其特征在于其化学结构式如下式所示：![]()
其中，聚合度m＝1-1000，n＝1-1000；Ar为：![]()
![]()
或![]()
R1为：![]()
R2为：![]()
或![]()
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