[发明专利]聚酰亚胺薄膜上激光诱导选择性化学镀的方法

摘要

本发明公开了一种聚酰亚胺薄膜上激光诱导选择性化学镀的方法。将聚酰亚胺薄膜先进行改性制成表面束缚银离子的聚酰亚胺薄膜，然后将表面束缚银离子的聚酰亚胺薄膜用聚焦激光进行选择性辐射，再经过稀酸处理及高温加热后进行化学镀可得到聚酰亚胺薄膜表面上微米级图形化的化学镀层。本发明实施简单、污染小、图形可电脑实时控制，并且镀层与底材结合力好，图形分辨率、选择性高。本发明在线路板制造、集成电路等电子工业有良好的应用前景。

主权项

1.聚酰亚胺薄膜上激光诱导选择性化学镀的方法，其特征在于其方法如下：(1)聚酰亚胺薄膜的表面改性：将聚酰亚胺薄膜浸入0.5～2mol/L的强碱溶液中，浸泡温度为20～80℃，浸泡时间为1～50分钟，取出用去离子水清洗，清洗后聚酰亚胺薄膜表面生成酰亚胺盐；然后浸入1～15g/L的硝酸银溶液中，浸泡温度为20～80℃，浸泡时间为5～120分钟，取出用去离子水清洗，从而得到表面束缚银离子的聚酰亚胺薄膜，其中强碱为氢氧化钠或氢氧化钾；(2)表面束缚银离子的聚酰亚胺薄膜进行激光辐射：将表面束缚银离子的聚酰亚胺薄膜置于激光装置的样品台上，将激光聚焦，电脑程序控制光束或样品台的移动，激光的波长在133～400nm范围内，聚焦后的能量为0.05～10mJ/cm2，扫描速度为0.01～10mm/s，得到激光辐射后的聚酰亚胺薄膜，激光辐射后在辐射区的银离子被还原成金属银粒子，而未辐射区域的银离子保持原样；(3)激光辐射后的聚酰亚胺薄膜表面多余银离子的清洗及聚酰亚胺薄膜表面酰亚胺环的再形成：将激光辐射后的聚酰亚胺薄膜浸入体积比为0.05％～10％的稀酸溶液中，浸泡温度为10～50℃，浸泡时间为1～80分钟，然后取出用去离子水清洗，这样在未辐射区域的银离子被氢离子交换掉，未辐射区域的表面生成聚酰亚胺酸，然后进行高温处理，温度为150～250℃，烘烤时间为0.5～3小时，烘烤后酰亚胺酸重新闭合成酰亚胺环，得到表面有选择性沉积银的聚酰亚胺薄膜，其中稀酸为稀硫酸、稀甲酸、稀乙酸、稀丙酸、或稀硝酸；(4)化学镀：将表面有选择性沉积银的聚酰亚胺薄膜投入到商品或自制的化学镀铜、镀镍或镀银的镀液中进行化学镀，化学镀的温度控制在20～60℃，时间为25～45分钟，镀完后用清水清洗，得到聚酰亚胺薄膜表面上微米级图形化的化学镀层。