[发明专利]同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法有效
申请号: | 200510110726.1 | 申请日: | 2005-11-24 |
公开(公告)号: | CN1790166A | 公开(公告)日: | 2006-06-21 |
发明(设计)人: | 朱正平 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法,其特征在于包括如下步骤:(a)确定垂直方向图像最大有效值及最小有效值;(b)进行对准扫描,得到垂直方向采样点数;(c)对准扫描结束后,根据传感器采样得到的数据进行计算,确定实测图像的最大值与最小值;(d)当实测图像最大值与最小值都在正常值范围内,则更新图像垂直方向图像最大有效值及最小有效值后返回步骤(b),重新进行对准扫描;(e)当实测图像最大值与最小值不在正常值范围内,则直接返回步骤(b),重新进行对准扫描。 | ||
搜索关键词: | 同轴 对准 扫描 长度 自适应 优化 方法 | ||
【主权项】:
1、一种同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法,其特征在于包括如下步骤:(a)确定垂直方向图像最大有效值及最小有效值;(b)进行对准扫描,得到垂直方向采样点数;(c)对准扫描结束后,根据传感器采样得到的数据进行计算,确定实测图像的最大值与最小值;(d)当实测图像最大值与最小值都在正常值范围内,则更新图像垂直方向图像最大有效值及最小有效值后返回步骤(b),重新进行对准扫描;(e)当实测图像最大值与最小值不在正常值范围内,则直接返回步骤(b),重新进行对准扫描。
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