[发明专利]一种剥离蒙脱土/浇铸尼龙纳米复合材料的制备方法无效
| 申请号： | 200510111374.1 | 申请日： | 2005-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN1982373A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 刘安栋;解廷秀;杨桂生 | 申请（专利权）人： | 上海杰事杰新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C08L77/02 | 分类号： | C08L77/02;C08K3/34;C08K5/29;C08G69/18 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵继明 |
| 地址： | 201109*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种剥离蒙脱土/浇铸尼龙纳米复合材料的制备方法，该方法是采用阴离子开环聚合法制备，包括以下工艺步骤：蒙脱土的分散，首先将蒙脱土分散在10～200倍的水溶液中，在80℃水浴中搅拌2小时，加入己内酰胺分散0.5～6小时，然后在100℃下用减压蒸馏除去大部分水，再升温140～180℃，抽真空30分钟，将催化剂、活化剂或其他助剂按一定配比加入己内酰胺中，混合均匀，进行浇铸，模温160～180℃，反应10～20分钟，在50℃烘箱中冷却。与现有技术相比，本发明产品不仅具有更高的强度、模量和阻隔性，而且具有更高的分子量、更高的结晶度、更高的热变形温度以及更小的收缩率等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 剥离 蒙脱土 浇铸 尼龙 纳米 复合材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种剥离蒙脱土/浇铸尼龙纳米复合材料的制备方法，其特征在于，该方法是采用阴离子开环聚合法制备剥离蒙脱土/浇铸尼龙纳米复合材料，该方法包括以下工艺步骤：蒙脱土的分散，首先将蒙脱土分散在10～200倍的水溶液中，在80℃水浴中搅拌2小时，加入己内酰胺分散0.5～6小时，然后在100℃下用减压蒸馏除去大部分水，再升温140～180℃，抽真空30分钟，将催化剂、活化剂或其他助剂按一定配比加入己内酰胺中，混合均匀，进行浇铸，模温160～180℃，反应10～20分钟，在50℃烘箱中冷却。
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