[发明专利]光刻胶涂覆装置及其方法有效

专利信息
申请号: 200510111675.4 申请日: 2005-12-19
公开(公告)号: CN1987652A 公开(公告)日: 2007-06-27
发明(设计)人: 陈林炯;胡晓明;张峻铭 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;B05C11/08
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光刻胶喷涂装置,所述装置包括喷涂光刻胶的喷嘴;放置至少一个光刻胶喷嘴的喷嘴卡槽;抓取光刻胶喷嘴并可带动喷嘴移动和升降的喷嘴抓取臂;承载需要喷涂光刻胶的晶片的晶片承载台;带动晶片承载台进行旋转的旋转机构;置于喷嘴卡槽、校准喷嘴与晶片表面的同心度和高度的伪喷嘴;控制喷嘴抓取臂的移动并记忆喷嘴抓取臂抓取喷嘴的位置的控制系统;以及为所述喷嘴供应光刻胶的光刻胶供应系统。本发明还相应提供了一种喷涂光刻胶的方法,包括喷嘴抓取臂抓取伪喷嘴校准喷嘴与晶片表面的同心度和高度;喷嘴抓取臂抓取喷嘴移动到需要喷涂光刻胶的晶片表面;向晶片表面喷涂光刻胶。
搜索关键词: 光刻 胶涂覆 装置 及其 方法
【主权项】:
1、一种光刻胶喷涂装置,所述装置包括:喷涂光刻胶的喷嘴;放置至少一个光刻胶喷嘴的喷嘴卡槽;抓取光刻胶喷嘴并可带动喷嘴移动和升降的喷嘴抓取臂;承载需要喷涂光刻胶的晶片的晶片承载台;带动晶片承载台进行旋转的旋转机构;置于喷嘴卡槽、校准喷嘴与晶片表面的同心度和高度的伪喷嘴;以及控制系统,控制喷嘴抓取臂的移动并记忆喷嘴抓取臂抓取喷嘴的起始位置,和旋转机构带动晶片承载台旋转的速度;供胶系统,为所述喷嘴供应光刻胶的。
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