[发明专利]光刻掩模板清洁方法无效
| 申请号： | 200510112252.4 | 申请日： | 2005-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1994589A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | 谭智敏 | 申请（专利权）人： | 上海广电NEC液晶显示器有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;B08B7/04 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 薛琦 |
| 地址： | 201108上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于清洁TFT－LCD(薄膜晶体管－液晶显示器)工业用大型光刻掩模板的方法，利用高压空气枪，辅助聚合物清洁棒和工业用棉棒的方法，并适时利用辅助试剂丙酮和纯水，达到有效清除光刻掩模板表面的微小异物颗粒和污渍的效果。本清洁方法适用于在工业用洁净室里现场进行操作，配合利用内置于曝光装置内部的灰尘检查装置，实时地监控掩模板表面的异物颗粒附着情况，有效及时防止由于光刻掩模板表面异物引起曝光图案转写后产生的产品共通缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 模板 清洁 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻掩模板清洁方法，其特征在于，在曝光装置内的灰尘检查装置报警后，将掩模板取出，利用强光光源查看灰尘分布，然后利用压缩气枪将异物去除。
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