[发明专利]化学机械抛光衬垫和化学机械抛光方法有效
| 申请号： | 200510113273.8 | 申请日： | 2005-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN1757483A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 田野裕之;西村秀树;志保浩司 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;邹雪梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种化学机械抛光衬垫，在以下条件下测量抛光基板在30℃和60℃下的储存弹性模量时，该化学机械抛光衬垫在30℃下的储存弹性模量E′(30℃)小于或等于120MPa，而且在30℃下的储存弹性模量E′(30℃)与在60℃下的储存弹性模量E′(60℃)的比(E′(30℃)/E′(60℃))大于或等于2.5，条件如下：初始负荷：100g；最大偏移：0.01％；频率：0.2Hz。使用上述化学机械抛光衬垫的化学机械抛光方法。该化学机械抛光衬垫可以抑止在化学机械抛光步骤中在被抛光表面产生刮痕，并且可以提供高质量的抛光表面，而且该化学机械抛光方法通过使用该化学机械抛光衬垫而提供高质量的抛光表面。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 衬垫 方法 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械抛光衬垫，在以下条件下测量抛光基板在30℃和60℃下的储存弹性模量时，该化学机械抛光衬垫在30℃下的储存弹性模量E′(30℃)小于或等于120MPa，而且在30℃下的储存弹性模量E′(30℃)与在60℃下的储存弹性模量E′(60℃)的比(E′(30℃)/E′(60℃)大于或等于2.5，条件如下：初始负荷：100g最大偏移：0.01％频率：0.2Hz。
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