[发明专利]X线体层照相机的调整装置和调整方法无效
申请号: | 200510113815.1 | 申请日: | 2005-10-17 |
公开(公告)号: | CN1765326A | 公开(公告)日: | 2006-05-03 |
发明(设计)人: | 索尔斯坦·比特纳;温弗里德·柯伯;汉斯-于尔根·米勒;埃尔玛·拉莫特 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 侯宇;陶凤波 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明公开了一种X线体层照相机的调整装置和调整方法,用于支承装置(5、6)与照相系统(3、4)彼此相对定位。为了调整,使用一个分配给支承装置(5、6)的基准器(15)和一个投影在该基准器(15)上的基准激光器(2),基准激光器(2)直接装在旋转框架(12)上,从而避免在基准激光器(2)与照相系统(3、4)之间定向时的误差。此外,由于基准激光器(2)直接设在X线体层照相机的旋转框架(12)上,通过将基准激光器(2)调整到两个不同的彼此至少基本上有180度角间距的转角位置,保证在激光束与照相系统(3、4)的照相平面之间简单地校准。 | ||
搜索关键词: | 线体层 照相机 调整 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种X线体层照相机(1)的调整装置,用于使一个支承装置(5、6)与一个照相系统(3、4)彼此相对定位,其中,该照相系统(3、4)设在一个旋转框架(12)上可绕一系统轴线(14)旋转,以及,所述调整装置有一个分配给所述支承装置(5、6)的基准器(15)和一个投影在该基准器(15)上的基准激光器(2),其特征为:该基准激光器(2)被直接分配给所述旋转框架(12)。
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