[发明专利]形貌测量方法及其测量装置有效
申请号: | 200510114335.7 | 申请日: | 2005-10-20 |
公开(公告)号: | CN1952594A | 公开(公告)日: | 2007-04-25 |
发明(设计)人: | 张宏彰;林耀明 | 申请(专利权)人: | 致茂电子股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01B9/02;G01B9/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李强 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种形貌测量方法(surface profile measuringmethod),是以一宽频光源经分光镜分束后,分别照射待测物体表面与一参考面,由两个表面的反射光产生干涉,以一固定步幅,改变物体表面与分光镜的距离,产生一高度值对应于光强度的干涉图谱。接下来,扫描此干涉图谱,找出对应于最大光强度的第一干涉条纹。然后,于第一干涉条纹及其附近的干涉条纹中,使用干涉图谱对称性原则,找出对称性最佳的一第二干涉条纹。随后,在此第二干涉条纹上,利用相位补偿法,计算出第二干涉条纹的波峰所对应的零光程差处,即为待测物体表面的高度值。 | ||
搜索关键词: | 形貌 测量方法 及其 测量 装置 | ||
【主权项】:
1.一种形貌测量方法,以一宽频光源经一分光镜分束后,分别照射一物体表面与一参考面,并以一定步幅,改变该物体表面与该分光镜的距离,以产生一高度值对应于光强度的干涉图谱,该形貌测量方法至少包括下列步骤:扫描该干涉图谱,找出对应于最大光强度的第一资料点;于该第一资料点及其周边一定范围内的资料点中,找出一第二资料点,使该干涉图谱相对于该第二资料点具有最佳对称性;以及依据该第二资料点及其邻近的资料点,找出该第二资料点所座落的干涉条纹的波峰,于该干涉图谱上所对应的高度值。
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