[发明专利]浸润式微影曝光设备及方法无效
| 申请号： | 200510115208.9 | 申请日： | 2005-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN1963673A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕;林建宏;林进祥;鲁定中;林本坚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 台湾省新竹市新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种浸润式微影曝光设备及方法，适用于在浸润式微影期间实质消除曝光液体中的微气泡。该设备包括光学系统，可透过光罩而将光投射至晶圆上。光学转移室邻近于上述的光学系统，以装载曝光液体。至少一百万赫级超音波板可动地接合在光学转移室，以在曝光液体中产生音波，并可以消除曝光液体中的微气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 式微 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种浸润式微影曝光设备，其特征在于其至少包括：一光学转移室，用以装载一曝光液体；一超音波板，可操作地与该光学转移室接合，以传播复数个音波通过该曝光液体；以及一光学系统，邻近于该光学转移室，可将一光源导入该曝光液体。
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