[发明专利]具有晶圆密封机构的改良型浸润式微影系统及其方法有效
| 申请号： | 200510115209.3 | 申请日： | 2005-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN1963674A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 林本坚;高蔡胜;陈俊光;刘如淦;游信胜;施仁杰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 台湾省新竹市新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是有关于一种具有晶圆密封机构的改良型浸润式微影系统及其方法。该浸润式微影系统，包括液体以及一密封垫圈。此液体的特征提供一浸润流体以在晶圆上进行浸润式微影，此密封垫圈覆盖于晶圆的边缘的预设部位，当液体运用于浸润式微影制程中时，可以防止浸润液体透过晶圆的边缘的覆盖部位泄漏出来。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 密封 机构 改良 浸润 式微 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1、一种浸润式微影系统，其特征在于其至少包括：一液体，具有一特征，藉以提供一浸润式液体用来在一晶圆上执行浸润式微影制程；以及一密封垫圈，覆盖该晶圆的边缘的一预设部分，当该浸润液体用于浸润式微影制程时，藉以防止该浸润液体由该晶圆的边缘的被覆盖部分泄漏出来。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510115209.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：加热器和具有该加热器的喷墨打印头
- 下一篇：一种电控行车制动器
