[发明专利]浸没式微影设备及制程有效
申请号: | 200510115212.5 | 申请日: | 2005-11-11 |
公开(公告)号: | CN1963675A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 高蔡胜;陈俊光;刘如淦;林本坚 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 台湾省新竹市新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关于一种浸没式微影设备及制程。适用于半导体制造程序之中的浸没式微影系统,其提供了一对着晶圆表面移动的镜头组件,并包括了一与镜头组件组装在一起,顺着镜头组件移动的喷嘴及排水组件。喷嘴与排水组件可被环绕配置于镜头周围,并且彼此相对,或者可提供一包括复数个交替配置的可选择性喷嘴及排水设备的环圈,环绕于镜头周围,其中喷嘴及排水组件是可围绕着镜头作转动的。正在进行图刻程序的晶圆至少会有一部份被沉浸于喷嘴组件所提供的液体中,而液流方向可经由操作喷嘴与排水组件来加以控制。可将液流方向指向外侧,如此有助于减轻微粒子污染现象。 | ||
搜索关键词: | 浸没 式微 设备 | ||
【主权项】:
1、一种光学微影设备,用于半导体元件制程中,其特征在于其包括了一晶圆镜台、一镜头以及一液体分配组件,其中该液体分配组件装配于该镜头上,用以沿着一要求方向引导一液体,在该晶圆镜台所承载的一半导体晶圆的一表面与该镜头之间。
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