[发明专利]薄膜晶体管的制造方法及有机电激发光显示装置有效

专利信息
申请号: 200510115668.1 申请日: 2005-11-08
公开(公告)号: CN1790641A 公开(公告)日: 2006-06-21
发明(设计)人: 菱田光起 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L27/32
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 程伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种薄膜晶体管的制造方法及有机电激发光显示装置,其特征为:藉由等离子CVD法将氧化硅膜(51)沉积于玻璃基板(50)上,再藉由等离子CVD法将非晶硅膜(52)沉积于氧化硅膜(51)上;对非晶硅膜(52)照射准分子激光,一直加热到非晶硅膜(52)熔解为止并使其结晶化,以作成多晶硅膜(52A);将此多晶硅膜(52A)蚀刻成预定的图案;将P型杂质例如硼离子植入于多晶硅膜(52A)中,藉由CVD法沉积由氧化硅膜构成的栅极绝缘膜(53),以覆盖多晶硅膜(52A),再于栅极绝缘膜(53)上形成栅极电极(54)。通过本发明可降低有机EL显示装置的横纹与纵纹的显示不均,从而提高显示质量。
搜索关键词: 薄膜晶体管 制造 方法 机电 激发 显示装置
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管的制造方法,其特征在于:该方法包括以下步骤, 于基板上沉积非晶质状态的硅膜的步骤;对所述硅膜进行激光照射,将所述硅膜熔解并结晶化,以作成多晶硅膜的步骤;将所述多晶硅膜蚀刻成预定图案的步骤;于所述蚀刻结束后,将杂质导入至所述多晶硅膜中的步骤;于所述多晶硅膜上形成栅极绝缘膜的步骤;于所述栅极绝缘膜上形成栅极电极的步骤;以及于所述多晶硅膜内形成源极区域及漏极区域的步骤。
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