[发明专利]光扫描装置及光扫描装置的调整方法有效

专利信息
申请号: 200510116088.4 申请日: 2005-10-28
公开(公告)号: CN1769948A 公开(公告)日: 2006-05-10
发明(设计)人: 石部芳浩 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G02B3/00;G03G15/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 曲瑞
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种可以无描绘性能的劣化且可以谋求装置整体的小型化以及简洁化的光扫描装置以及使用了该装置的图像形成装置。为此,在具有光源装置(1)、将从该光源装置出射的光束导向偏向装置的入射光学系统(2)以及将被该偏向装置偏转了的光束导向被扫描面(6)上的成像光学系统(5)的光扫描装置中,该入射光学系统具有主扫描断面内的光焦度和正交于主扫描断面内的副扫描断面内的光焦度相互不同的变形聚光透镜,该成像光学系统具有在副扫描断面内使该偏向装置的偏向面或者其附近与该被扫描面呈共轭关系的光焦度,并使之满足条件式。
搜索关键词: 扫描 装置 调整 方法
【主权项】:
1.一种光扫描装置,具有光源装置、将从该光源装置出射的光束导向偏向装置的入射光学系统和将被该偏向装置反射了的光束导向被扫描面上的成像光学系统,在副扫描断面内该偏向装置的偏向面或者该偏向面的附近与该被扫描面满足共轭关系,其特征在于:上述入射光学系统具有具备主扫描方向的光焦度和副扫描方向的光焦度、且主扫描方向的光焦度和副扫描方向的光焦度相互不同的变形聚光透镜,在取上述成像光学系统副扫描方向的横向放大率为β、通过上述成像光学系统会聚的成像点的副扫描方向束腰位置处的光束半径为w0、自上述光源装置出射的光束的波长为λ0(mm)时,其满足1≤β2 β2≤23.56×w02/λ0 这样的条件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510116088.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top